释放MEMS机械结构的干法刻蚀技术 湿法刻蚀是MEMS 器件去除牺牲材料的传统工艺，总部位于苏格兰的Point 35 MICrostructures在SEMICONChina期间推出了干法刻蚀模块与氧化物释放技术，该技术为MEMS器件设计师提供了更多的生产选择，同时带来了宽泛的制造工艺窗口，从而使良率得到了提升。SVR-vHF氧化物释放模块结合... 2023-06-13 MEMS机械结构刻蚀技术文章硬件设计PCB设计
